| 专利名称 | 一种暗电平指标可控的成像系统 | 申请号 | CN201220463459.1 | 专利类型 | 实用新型 | 公开（公告）号 | CN202841345U | 公开（授权）日 | 2013.03.27 | 申请（专利权）人 | 中国科学院西安光学精密机械研究所 | 发明（设计）人 | 许哲;张健;李爱玲;单金玲 | 主分类号 | H04N5/232(2006.01)I | IPC主分类号 | H04N5/232(2006.01)I;H04N5/361(2011.01)I | 专利有效期 | 一种暗电平指标可控的成像系统 至一种暗电平指标可控的成像系统 | 法律状态 | 授权 | 说明书摘要 | 本实用新型涉及一种暗电平指标可控的成像系统，包括暗电平测试环境、实时图像采集与显示系统以及光电成像传感器、运算放大器、图像信号处理芯片、开关控制电路、模拟开关和参考电平补偿网络，光电成像传感器的输出端与运算放大器的输入端连接，运算放大器的输出端通过电容与图像信号处理芯片的输入端连接，图像信号处理芯片的输出端与实时图像采集与显示系统的输入端连接，参考电平补偿网络通过模拟开关与运算放大器的输入端连接。本实用新型解决了现有的成像系统中的暗电平调节具有局限性的技术问题，实现暗电平指标的双向可控。 |
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