| 专利名称 | 一种集成电路缺陷的光学检测方法和装置 | 申请号 | CN201110283462.5 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN103018202A | 公开（授权）日 | 2013.04.03 | 申请（专利权）人 | 中国科学院微电子研究所 | 发明（设计）人 | 陈鲁 | 主分类号 | G01N21/45(2006.01)I | IPC主分类号 | G01N21/45(2006.01)I;G01N21/956(2006.01)I | 专利有效期 | 一种集成电路缺陷的光学检测方法和装置 至一种集成电路缺陷的光学检测方法和装置 | 法律状态 | 授权 | 说明书摘要 | 本发明实施例公开了一种集成电路缺陷的光学检测方法和装置，其中，所述方法包括：在Fourier平面设置螺旋相位片，通过所述螺旋相位片，接收集成电路上缺陷的散射光和反射光，其中，所述散射光经过所述螺旋相位片，在图像接收平面形成圆圈形状图像；所述反射光经过所述螺旋相位片的中心，在图像接收平面形成同相位均匀背景光；所述圆圈形状图像与同相位均匀背景光在图像接收平面发生相位干涉，形成包含亮斑和暗斑的光斑图像；根据所述光斑图像，确定所述集成电路上缺陷的类别。通过本发明实施例，能够提高集成电路中缺陷检测的精度。 |
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