三维立体堆叠的电阻转换存储器及其制造方法

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专利名称 三维立体堆叠的电阻转换存储器及其制造方法 申请号 CN200910045084.X 专利类型 发明专利 公开(公告)号 CN101477987 公开(授权)日 2009.07.08 申请(专利权)人 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 发明(设计)人 张挺;宋志棠;刘波;封松林;陈邦明 主分类号 H01L27/10(2006.01)I IPC主分类号 H01L27/10(2006.01)I;H01L21/82(2006.01)I;H01L45/00(2006.01)I;G11C11/56(2006.01)I 专利有效期 三维立体堆叠的电阻转换存储器及其制造方法 至三维立体堆叠的电阻转换存储器及其制造方法 法律状态 实质审查的生效 说明书摘要 本发明揭示一种三维立体堆叠的电阻转换存储器及其制造方法。电阻转换存储器包括基 底、若干第一布线、若干第二布线、若干存储单元阵列。多个平行设置的第一布线设置于基 底上;多个相互平行的第二布线设置于基底上、与第一布线绝缘分离、并与第一布线交叉配 置;呈矩阵排列的存储单元阵列层叠设置于基底上,上下相邻的两个存储单元阵列之间、存 储单元阵列与基底之间至少设置第一布线、第二布线中的一个;存储单元阵列包括电阻转换 存储单元、多晶半导体肖特基二极管。本方法可形成高质量的金属-半导体接触,成本较低, 有望在三维高密度、低成本的固态存储器的竞争中获得较大优势。

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