| 专利名称 | 一种X-射线滤光片的制备方法 | 申请号 | CN200910076786.4 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN101475698 | 公开（授权）日 | 2009.07.08 | 申请（专利权）人 | 中国科学院高能物理研究所 | 发明（设计）人 | 张静 | 主分类号 | C08J5/18(2006.01)I | IPC主分类号 | C08J5/18(2006.01)I;C08L101/00(2006.01)I;C08L75/04(2006.01)I;C08L33/12(2006.01)I;C08L77/00(2006.01)I;C08L63/00(2006.01)I;C08L67/00(2006.01)I;C08K3/22(2006.01)I;G21K3/00(2006.01)I;G01N23/223(2006.01)I | 专利有效期 | 一种X-射线滤光片的制备方法 至一种X-射线滤光片的制备方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明涉及一种X-射线滤光片的制备方法，其以金属氧化物纳 米粒子为基质材料，有机高分子为基底材料，按照1∶5-2∶1的基质 /基底重量比混合，通过自动涂膜机和湿膜制备器，制备厚度可控的 金属氧化物纳米粒子/有机高分子薄膜，应用于X-射线滤光片。该方 法能大大地减少涂料消耗及对人体和环境的污染，另外，通过调控 X-射线滤光片中的金属氧化物纳米粒子及有机高分子的含量，可有效 地降低在X射线吸收光谱的荧光模式测量中的散射背底，相对地增 强在测量中的荧光信号。 |
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