| 专利名称 | 软岩表面憎水处理方法 | 申请号 | CN200910060535.7 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN101462894 | 公开（授权）日 | 2009.06.24 | 申请（专利权）人 | 中国科学院武汉岩土力学研究所 | 发明（设计）人 | 周辉;张凯;房敬年;杨鑫;冯夏庭;程昌炳 | 主分类号 | C04B41/52(2006.01)I | IPC主分类号 | C04B41/52(2006.01)I;C04B41/48(2006.01)N | 专利有效期 | 软岩表面憎水处理方法 至软岩表面憎水处理方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明公开了一种软岩表面憎水处理方法，涉及一种稳定软岩的工程处理技 术。本发明包括下列步骤：①选用高分子表面活性剂作为憎水材料；②将高分子 表面活性剂喷淋于软岩的表面；③干燥后，再对软岩的表面喷淋一次或根据需要 适时加喷。高分子表面活性剂选用十八烷基脲。本发明工艺简单，便于操作，成 本低廉，适用于对软岩壁面和软岩洞面的封护。 |
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