一种太阳能电池表面减反射结构的制作系统及制作方法

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专利名称 一种太阳能电池表面减反射结构的制作系统及制作方法 申请号 CN201010244795.2 专利类型 发明专利 公开(公告)号 CN101924166A 公开(授权)日 2010.12.22 申请(专利权)人 中国科学院光电技术研究所;长春理工大学;东莞市星火机电设备工程有限公司 发明(设计)人 张锦;王作斌;刘水庆;宋正勋;翁占坤;刘国强 主分类号 H01L31/18(2006.01)I IPC主分类号 H01L31/18(2006.01)I 专利有效期 一种太阳能电池表面减反射结构的制作系统及制作方法 至一种太阳能电池表面减反射结构的制作系统及制作方法 法律状态 实质审查的生效 说明书摘要 太阳能电池表面减反射结构的制作系统及制作方法,其特征是用激光干涉光刻系统,将多个相干激光束组合,对干涉场内的光强度分布进行强弱调制,用调制后重新分布的激光能量烧蚀光电池器件材料表面,在大面积范围内产生微米或纳米级密集的孔、柱浮雕结构,从而减少反射率,增加对光的吸收,提高光电转换效率。用该方法在基体表面产生的减反射微细结构,由于没有外来材料,更稳定耐用,并且通过调整干涉光刻系统入射角可以调整结构的周期和尺寸,使接收波长更有针对性,具有工作波段可控性好的优点。

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