一种具有周期结构的半导体及其制备方法

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专利名称 一种具有周期结构的半导体及其制备方法 申请号 CN201210174632.0 专利类型 发明专利 公开(公告)号 CN102693900A 公开(授权)日 2012.09.26 申请(专利权)人 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 发明(设计)人 姜海涛;魏星;张苗;狄增峰;武爱民;母志强 主分类号 H01L21/02(2006.01)I IPC主分类号 H01L21/02(2006.01)I;B82Y40/00(2011.01)I 专利有效期 一种具有周期结构的半导体及其制备方法 至一种具有周期结构的半导体及其制备方法 法律状态 实质审查的生效 说明书摘要 本发明提供一种具有周期结构的半导体及其制备方法,首先提供一的AAO模板,所述AAO模板包括铝基底和具有周期排列的多个孔道的氧化铝层,于各该孔道内填充光刻胶,并使所述光刻胶覆盖所述氧化铝层,然后去除所述铝基底,接着去除各该孔道的底部以使所述孔道形成通孔,接着键合一半导体衬底及所述氧化铝层,并去除光刻胶,接着于所述通孔内填充半导体材料,最后去除所述氧化铝层,以完成所述具有周期结构的半导体的制备。本发明利用AAO模板实现了半导体周期结构的制备,工艺简单,成本低、可靠性和重复性好、且与半导体工艺兼容,采用本方法可制备出具有纳米级周期结构的半导体,适用于工业生产。

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