| 专利名称 | 软X射线遮光膜及其制备方法 | 申请号 | CN201210289501.7 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN102779558A | 公开（授权）日 | 2012.11.14 | 申请（专利权）人 | 中国科学院高能物理研究所 | 发明（设计）人 | 陈田祥;胡渭;孙庆荣;陈勇;李晓军 | 主分类号 | G21F1/12(2006.01)I | IPC主分类号 | G21F1/12(2006.01)I;G21F1/00(2006.01)I | 专利有效期 | 软X射线遮光膜及其制备方法 至软X射线遮光膜及其制备方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明提供了一种软X射线遮光膜，包括高分子材料薄膜、支撑网及铝层，其中，所述支撑网设置于所述高分子材料薄膜上，所述铝层包覆在所述高分子材料薄膜及支撑网表面上。该软X射线遮光膜覆盖有铝膜，可仅透过软X射线而阻止其它光线，且具有良好的力学性能。本发明同时还提供了该软X射线遮光膜的制备方法。 |
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