| 专利名称 | 矩形样品磁控溅射仪运动控制装置及其控制方法 | 申请号 | CN200710158573.7 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN101451233 | 公开（授权）日 | 2009.06.10 | 申请（专利权）人 | 中国科学院沈阳科学仪器研制中心有限公司 | 发明（设计）人 | 耿达;戚晖;张军 | 主分类号 | C23C14/54(2006.01)I | IPC主分类号 | C23C14/54(2006.01)I;G05B19/02(2006.01)I | 专利有效期 | 矩形样品磁控溅射仪运动控制装置及其控制方法 至矩形样品磁控溅射仪运动控制装置及其控制方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明涉及一种矩形样品磁控溅射仪运动控制装置及其控制方法，该 装置具有工业控制计算机、运动执行机构及运动控制卡，运动控制卡接收 运动执行机构的反馈信号，并向运动执行机构发送控制信号，运动控制卡 与工业控制计算机进行通讯连接；工业控制计算机存有控制程序。该方法 包括以下步骤：初始化操作；进入等待及状态显示界面，同时报警检测； 用户手动设置系统状态参数；控制代码的设定，将用户设置的代码转换成 运动控制卡能够识别的运动函数；控制程序是否按控制代码自动运行以及 运行结束后样品状态设定；选择是，则开线程运行系统并实时显示；程序 结束运行。本发明提高了样品成膜的均匀性，操作简单、易实现，且安装 和携带方便。 |
1、源头对接，价格透明
2、平台验证，实名审核
3、合同监控，代办手续
4、专员跟进，交易保障