| 专利名称 | 具有垂直光路结构的薄膜应力测量装置及其应用 | 申请号 | CN201210061864.5 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN102620868A | 公开（授权）日 | 2012.08.01 | 申请（专利权）人 | 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所 | 发明（设计）人 | 方运;王逸群;王玮;朱建军;张永红;张宝顺 | 主分类号 | G01L1/24(2006.01)I | IPC主分类号 | G01L1/24(2006.01)I | 专利有效期 | 具有垂直光路结构的薄膜应力测量装置及其应用 至具有垂直光路结构的薄膜应力测量装置及其应用 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明揭示了一种具有垂直光路结构的薄膜应力测量装置及其应用。该薄膜应力测量装置包括多光束图形发生器以及光束位置探测器，所述多光束图形发生器与所述光束位置探测器互相垂直排布。本发明提高了薄膜应力测量精度，简化了薄膜应力测量装置的光路布局与装调要求，可被广泛应用于在薄膜应力离线测量装置、薄膜沉积设备、材料外延设备等之中。 |
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