| 专利名称 | 一种平面像场超分辨成像透镜的制备方法 | 申请号 | CN201210107575.4 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN102621601A | 公开（授权）日 | 2012.08.01 | 申请（专利权）人 | 中国科学院光电技术研究所 | 发明（设计）人 | 罗先刚;王长涛;赵泽宇;冯沁;王彦钦;高平;罗云飞;黄成;杨磊磊;陶兴 | 主分类号 | G02B3/00(2006.01)I | IPC主分类号 | G02B3/00(2006.01)I;G02B1/10(2006.01)I;G03F7/00(2006.01)I | 专利有效期 | 一种平面像场超分辨成像透镜的制备方法 至一种平面像场超分辨成像透镜的制备方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明提供一种平面像场超分辨成像透镜的制备方法，先选择基底材料；在基底表面旋涂牺牲层，其厚度为d1；在牺牲层上沉积平面多层膜，包括可用于激发表面等离子体的金属膜层和介质膜层，多层膜的厚度为d2；在多层膜上旋涂一层光刻胶，其厚度为d3；在光刻胶上曝光，显影得到所需大小的半圆形结构；将半圆形结构刻蚀转移到多层膜上，形成多层半圆形结构；在多层半圆形结构上沉积曲面多层膜，其厚度为d4；在曲面多层膜上沉积一层铬膜，膜厚为d5；在铬膜上进行开缝，缝宽为d6，间距为d7；在铬膜层上选用粘连剂粘连一块石英片；将基底和石英片泡在丙酮溶液内，通过溶解牺牲层来去掉基底材料。本发明的透镜可以实现图形的超分辨缩小成像。 |
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