| 专利名称 | 提高高能拍瓦激光聚焦功率密度的装置和方法 | 申请号 | CN201210060981.X | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN102608757A | 公开（授权）日 | 2012.07.25 | 申请（专利权）人 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 发明（设计）人 | 梁晓燕;於亮红;任志君;李儒新;徐至展 | 主分类号 | G02B26/06(2006.01)I | IPC主分类号 | G02B26/06(2006.01)I;G02B27/09(2006.01)I | 专利有效期 | 提高高能拍瓦激光聚焦功率密度的装置和方法 至提高高能拍瓦激光聚焦功率密度的装置和方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 一种提高高能拍瓦激光聚集功率密度的装置和方法，该装置包括反射镜组、变形镜、扩束系统、压缩器、大口径离轴抛面镜、楔形镜、波前探测器、高分辨率科学CCD、计算机和变形镜高压电源控制器，所述的波前探测器放置在大口径离轴抛面镜焦点后，校正部件小口径变形镜放置在压缩器前的小口径光路中，通过波前探测器和小口径可变形镜组成自适应光学闭合校正环路，对以焦点后球面波前为基准进行测量和校正。本发明利用小口径可变形镜能够有效地校正包括压缩光学元件和聚焦光学元件所引起的波前畸变在内的所有波前畸变，使聚焦焦斑的大小尽可能接近衍射极限，大大提高了激光聚焦的功率密度。本发明具有经济高效，调节简单，工作稳定等优点。 |
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