| 专利名称 | 任意切趾光纤光栅刻写装置和刻写方法 | 申请号 | CN201210104385.7 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN102621609A | 公开（授权）日 | 2012.08.01 | 申请（专利权）人 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 发明（设计）人 | 刘刚;张鑫;杨飞;叶青;蔡海文;方祖捷 | 主分类号 | G02B5/18(2006.01)I | IPC主分类号 | G02B5/18(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I | 专利有效期 | 任意切趾光纤光栅刻写装置和刻写方法 至任意切趾光纤光栅刻写装置和刻写方法 | 法律状态 | 授权 | 说明书摘要 | 一种任意切趾光纤光栅刻写装置和刻写方法，该装置由激光器、矩形光阑、可编程空间光调制器、函数发生器、柱面镜、相位掩模板夹具和三维调整架组成，本发明具有结构简单、经济实用、易于实现，有很好的可重复性和灵活性，克服了传统切趾光栅制作过程中需要用到高相干光源或者加工两块共轭的振幅模板，并且只能制作单一切趾光纤光栅的局限性。 |
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