| 专利名称 | 一种能够实现成像功能的多层金属介质膜的设计方法 | 申请号 | CN200710177754.4 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN101441325 | 公开（授权）日 | 2009.05.27 | 申请（专利权）人 | 中国科学院光电技术研究所 | 发明（设计）人 | 罗先刚;赵延辉;杜春雷;王长涛 | 主分类号 | G02B27/00(2006.01)I | IPC主分类号 | G02B27/00(2006.01)I | 专利有效期 | 一种能够实现成像功能的多层金属介质膜的设计方法 至一种能够实现成像功能的多层金属介质膜的设计方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 一种能够实现成像功能的多层金属介质膜的设计方法，其特征在于：首先选择入射波； 再选择两组一定厚度的金属材料和介质材料，将两组中的金属和介质分别交替排布构成两 种多层金属介质膜结构，根据入射波作用下每种材料的介电常数和每层膜的厚度能够分别 计算出这两种多层金属介质膜的等效介电常数；然后通过设计各薄膜层的厚度可以实现等 效介质中各方向介电常数大小和正负的变化，由此可使光波通过第一组多层金属介质膜结 构发散，而通过第二组多层金属介质膜结构会聚；将发散结构多层膜和会聚结构的多层膜 按特定的厚度比例粘合在一起便构成了具有成像功能的多层金属介质膜结构器件，该器件 可以实现对远小于工作波长的细微结构成像，达到超分辨的目的。 |
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