| 专利名称 | 一种基于金属覆盖层的负折射人工材料 | 申请号 | CN200810227029.8 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN101424758 | 公开（授权）日 | 2009.05.06 | 申请（专利权）人 | 中国科学院光电技术研究所 | 发明（设计）人 | 罗先刚;胡承刚;赵泽宇;陈旭南 | 主分类号 | G02B5/18(2006.01)I | IPC主分类号 | G02B5/18(2006.01)I;G02B1/10(2006.01)I;G03F7/00(2006.01)I;C23C14/24(2006.01)I;C23C14/18(2006.01)I | 专利有效期 | 一种基于金属覆盖层的负折射人工材料 至一种基于金属覆盖层的负折射人工材料 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 一种基于金属覆盖层的负折射人工材料，其特征包括以下步骤：(1)选择石英基片，并 将其表面抛光；然后在其表面蒸镀一层高纯SiO2膜；(2)在高纯SiO2膜表面蒸镀一层铬膜， 并在其上均匀涂覆一层光刻胶；(3)采用电子束光刻的方法，在光刻胶上制备出介质光栅结 构；(4)采用湿法腐蚀技术，将光刻胶作为掩模，腐蚀掉裸露在外的铬膜；(5)采用干法 腐蚀技术，将铬膜作为掩模，在高纯SiO2膜上刻蚀出介质光栅结构，去除铬膜；(6)采用 真空蒸镀技术，在SiO2光栅结构上蒸镀厚度为h的金属层，基于金属覆盖层的负折射人工材 料制作完成。本发明具有制作简便，单层损耗小，单层正入射的特性，在磁共振、近场光学、 隐身材料等领域具有很大的应用前景。 |
1、源头对接，价格透明
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