| 专利名称 | 制备提高机械强度和耐溶剂性的光子晶体薄膜的方法 | 申请号 | CN200810117465.X | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN101369029 | 公开（授权）日 | 2009.02.18 | 申请（专利权）人 | 中国科学院化学研究所 | 发明（设计）人 | 田恩涛;王京霞;宋延林;江雷 | 主分类号 | G02B1/02(2006.01)I | IPC主分类号 | G02B1/02(2006.01)I;C30B33/00(2006.01)I;C08J7/18(2006.01)I;C08L25/06(2006.01)I;C08L53/00(2006.01)I | 专利有效期 | 制备提高机械强度和耐溶剂性的光子晶体薄膜的方法 至制备提高机械强度和耐溶剂性的光子晶体薄膜的方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明涉及制备提高机械强度和耐溶剂性的光子晶体薄膜的方法。本发 明是使掺杂有光引发剂和交联剂的聚合物单体溶液均匀渗入到蛋白石型结构 的光子晶体薄膜的空隙中，然后用紫外光照射该薄膜使聚合物单体聚合，聚 合物单体聚合后将构成蛋白石型结构的光子晶体薄膜中的乳胶粒小球紧密连 接起来，在乳胶粒小球间形成聚合物高分子网络，利用聚合物高分子链形成 的网络结构来增强光子晶体的性能，因此能够增强光子晶体薄膜的机械性能。 以薄膜的硬度和杨氏模量为例，在蛋白石型结构的光子晶体薄膜的空隙中渗 入有聚合物单体溶液，经光交联处理后，可以使光子晶体薄膜的硬度，杨氏 模量等力学性能和耐各种溶剂性能大大提高，且基本不影响其原本具有的光 学性能。 |
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