| 专利名称 | 一种低场高弛豫率MRI造影剂及其制备方法与应用 | 申请号 | CN201110221384.6 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN102319443A | 公开（授权）日 | 2012.01.18 | 申请（专利权）人 | 中国科学院化学研究所 | 发明（设计）人 | 舒春英;甄明明;王春儒;郑俊鹏 | 主分类号 | A61K49/06(2006.01)I | IPC主分类号 | A61K49/06(2006.01)I | 专利有效期 | 一种低场高弛豫率MRI造影剂及其制备方法与应用 至一种低场高弛豫率MRI造影剂及其制备方法与应用 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明公开了一种适用于低场磁共振成像的高效MRI大分子造影剂及其制备方法与应用。所述MRI大分子造影剂可按照包括下述步骤的方法制备：a)将富勒烯羧酸衍生物溶于MES缓冲液中，加入EDC和NHS，室温下反应，得到富勒烯羧酸活性酯溶液；b)将Gd-DTPA-HSA加入到所述富勒烯羧酸活性酯溶液中搅拌反应，即得到所述的MRI造影剂。该Gd-DTPA-HSA-fullerene大分子造影剂在低场(0.5T)条件下弛豫效率显著提高，可在减少造影剂的使用剂量条件下得到明显的组织对比度；更为重要的是将其作为一种MRI分子探针，可以用于探索纳米材料(如功能化富勒烯衍生物)的体内分布代谢行为。 |
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