| 专利名称 | 一种实现超分辨成像功能的金属介质膜结构 | 申请号 | CN200810119562.2 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN101349771 | 公开（授权）日 | 2009.01.21 | 申请（专利权）人 | 中国科学院光电技术研究所 | 发明（设计）人 | 王长涛;刘尧;赵延辉;罗先刚 | 主分类号 | G02B3/00(2006.01)I | IPC主分类号 | G02B3/00(2006.01)I | 专利有效期 | 一种实现超分辨成像功能的金属介质膜结构 至一种实现超分辨成像功能的金属介质膜结构 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 一种实现超分辨成像功能的金属介质膜结构，其特征在于包括下列步骤：(1)选择入射 光，其波长为λ；(2)选择金属材料和介质材料，介电常数分别为εm和εd；(3)交替排布 金属薄膜和介质薄膜材料，形成多层金属介质薄膜结构，其中金属和介质单层膜层厚度分别 为dm和dd，多层金属介质膜的总厚度为d；(4)将物点放置于多层膜材料的一侧，并用入 射光来照射，在另一侧即可成像，其物像之间的距离为d+(εs(εd+εm)/(εs2+εdεm))·d；(5)步骤(3) 所得结构即为能够实现超分辨成像功能的金属介质膜结构。本发明的金属介质膜结构，不需 要金属和介质的介电常数匹配，只要在结构参数选择上满足特定条件，即可实现倏逝波放大， 从而可以大大拓展实现超分辨成像的工作波长。 |
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