一种加速集成电路物理版图分析和优化的方法

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专利名称 一种加速集成电路物理版图分析和优化的方法 申请号 CN201010214239.0 专利类型 发明专利 公开(公告)号 CN102314523A 公开(授权)日 2012.01.11 申请(专利权)人 中国科学院微电子研究所 发明(设计)人 吴玉平;陈岚;叶甜春 主分类号 G06F17/50(2006.01)I IPC主分类号 G06F17/50(2006.01)I 专利有效期 一种加速集成电路物理版图分析和优化的方法 至一种加速集成电路物理版图分析和优化的方法 法律状态 授权 说明书摘要 本发明公开一种加速集成电路物理版图分析和优化的方法,涉及集成电路技术领域。本方法根据输入的集成电路物理版图数据,对物理版图按计算节点进行区域划分,对不同计算节点内的区域进行同构分析,确定各计算节点内及相互之间的相同区域分析顺序,按顺序对物理版图区域进行分析和优化,在分析和优化过程中复用计算节点之间同构区域分析和优化的结果。本发明利用多级区域分割算法对物理版图进行划分,利用同构分析方法对划分后区域进行分析,找出其中相同的区域,让时间顺序上在后的要分析和优化的区域,不用再进行计算,而是直接复用与其完全相同的在先区域计算结果,从而节约时间,提高速度。

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