太赫兹量子级联激光器脊形结构湿法腐蚀的方法

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专利名称 太赫兹量子级联激光器脊形结构湿法腐蚀的方法 申请号 CN200710043823.2 专利类型 发明专利 公开(公告)号 CN101345395 公开(授权)日 2009.01.14 申请(专利权)人 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 发明(设计)人 曹俊诚;黎华;韩英军 主分类号 H01S5/22(2006.01)I IPC主分类号 H01S5/22(2006.01)I;H01L21/3063(2006.01)I;H01L21/308(2006.01)I;C23F1/16(2006.01)I 专利有效期 太赫兹量子级联激光器脊形结构湿法腐蚀的方法 至太赫兹量子级联激光器脊形结构湿法腐蚀的方法 法律状态 实质审查的生效 说明书摘要 一种太赫兹量子级联激光器脊形结构湿法腐蚀的方法,首先采用光刻显影制作腐蚀掩膜、 坚膜,然后用稀盐酸去除器件材料表面的氧化膜,再将器件材料用相应的夹具固定放入盛有 稀释的硫酸腐蚀液的器皿中,并采用磁力搅拌器进行湿法腐蚀,当腐蚀结束后,迅速将器件 材料从腐蚀液中取出,用过量的去离子水冲洗,然后用高纯氮气吹干,再将器件材料放入丙 酮溶液中去除表面的光刻胶掩膜后,进行台阶仪测试以确定腐蚀深度,如此可使腐蚀方便快 捷,且由于腐蚀速率低,可更容易控制腐蚀深度,特别是在腐蚀深度深,腐蚀时间长的情况 下,其优势显得格外突出。

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