| 专利名称 | 基于深刻蚀透射式石英光栅的啁啾控制装置 | 申请号 | CN201110298062.1 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN102360147A | 公开（授权）日 | 2012.02.22 | 申请（专利权）人 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 发明（设计）人 | 贾伟;周常河 | 主分类号 | G02F1/35(2006.01)I | IPC主分类号 | G02F1/35(2006.01)I;G02B5/18(2006.01)I;G02B5/10(2006.01)I | 专利有效期 | 基于深刻蚀透射式石英光栅的啁啾控制装置 至基于深刻蚀透射式石英光栅的啁啾控制装置 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 一种基于深刻蚀透射式石英光栅的啁啾控制装置，包括一对平行放置的高密度、深刻蚀、透射式熔融石英光栅对和一块二次非球面反射镜，所述的深刻蚀透射式石英光栅的周期为750nm，刻蚀深度为1900nm，占空比为0.6。本发明结构通过引入较强的空间啁啾，可以使光栅表面承载的激光功率密度大幅降低，同时可以保证在凹面反射镜焦点处获得超高能量超短脉冲的激光光场。本发明用于啁啾控制具有结构简单、高的激光破坏阈值、光谱范围宽(100纳米)和衍射效率高等优点。 |
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