| 专利名称 | 一种纳米图形化系统及其磁场施加装置 | 申请号 | CN201220138269.2 | 专利类型 | 实用新型 | 公开（公告）号 | CN202533709U | 公开（授权）日 | 2012.11.14 | 申请（专利权）人 | 中国科学院物理研究所 | 发明（设计）人 | 于国强;郭鹏;韩秀峰;郭朝晖;孙晓玉;周向前 | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I | IPC主分类号 | G03F7/20(2006.01)I;G01R31/00(2006.01)I | 专利有效期 | 一种纳米图形化系统及其磁场施加装置 至一种纳米图形化系统及其磁场施加装置 | 法律状态 | 说明书摘要 | 一种纳米图形化系统及其磁场施加装置，该纳米图形化系统包括真空腔、样品台和磁场施加装置，该磁场施加装置包括电源、磁场产生装置和一对磁极，所述磁场产生装置包括线圈和导磁软铁芯，所述电源与所述线圈连接，所述线圈缠绕在所述导磁软铁芯上以产生磁场，所述导磁软铁芯为半闭合框形结构，所述磁极分别安装在所述半闭合框形结构的两末端，所述纳米图形化系统的真空腔内设置有样品台，所述磁极相对于所述样品台设置在所述真空腔内，所述线圈和所述导磁软铁芯设置在所述真空腔外，所述导磁软铁芯将所述线圈产生的磁场引导进入所述真空腔内，所述磁极用以对所述样品台上的样品进行定位以及局域磁场的施加。 |
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