| 专利名称 | 一种等离子体平板透镜及其近场聚焦方法 | 申请号 | CN201010238832.9 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN102338894A | 公开（授权）日 | 2012.02.01 | 申请（专利权）人 | 国家纳米科学中心 | 发明（设计）人 | 苗俊杰;刘前;王永胜 | 主分类号 | G02B3/00(2006.01)I | IPC主分类号 | G02B3/00(2006.01)I;G02B27/28(2006.01)I | 专利有效期 | 一种等离子体平板透镜及其近场聚焦方法 至一种等离子体平板透镜及其近场聚焦方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明提供一种等离子体平板透镜，包括透光衬底和制作在所述衬底上的金属薄膜，所述金属薄膜加工有左旋的或右旋的螺旋结构；所述螺旋结构满足：(0≤φ≤2π，n＝1，2，3…，k＝1，2，3…)其中rn(φ)为极坐标系中第n圈螺旋结构在相位为φ处到中心的距离；rn0为在螺旋结构的每一圈中到中心最小的距离，λsp为所述金属薄膜的表面等离子体波长。本发明制备工艺与现有工艺兼容、易于集成、成本低；不需要将光源的中心对准透镜结构的中心，使用起来更加方便、简单，并且易于制作成透镜阵列；能够突破衍射极限，并且具有非常大的焦深；焦点处的场强可以通过调节螺旋结构的形状和尺寸来控制。 |
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