专利名称 | 低温相氧化铋光催化剂的退火方法 | 申请号 | CN201210192823.X | 专利类型 | 发明专利 | 公开(公告)号 | CN102698733A | 公开(授权)日 | 2012.10.03 | 申请(专利权)人 | 中国科学院福建物质结构研究所 | 发明(设计)人 | 林文文;黄丰;张继业;王永好;吕佩文;颜峰坡 | 主分类号 | B01J23/18(2006.01)I | IPC主分类号 | B01J23/18(2006.01)I;B01J37/00(2006.01)I | 专利有效期 | 低温相氧化铋光催化剂的退火方法 至低温相氧化铋光催化剂的退火方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明提供一种低温相氧化铋光催化剂的退火方法,属于半导体光催化领域。将氧化铋和供氧化合物真空密封,在300℃~900℃温度中,保温时间为1-72小时进行高温保温退火,最后自然降温。该方法提高其对于可见光的利用率,进而提高其可见光光催化效率。 |
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