低温相氧化铋光催化剂的退火方法

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专利名称 低温相氧化铋光催化剂的退火方法 申请号 CN201210192823.X 专利类型 发明专利 公开(公告)号 CN102698733A 公开(授权)日 2012.10.03 申请(专利权)人 中国科学院福建物质结构研究所 发明(设计)人 林文文;黄丰;张继业;王永好;吕佩文;颜峰坡 主分类号 B01J23/18(2006.01)I IPC主分类号 B01J23/18(2006.01)I;B01J37/00(2006.01)I 专利有效期 低温相氧化铋光催化剂的退火方法 至低温相氧化铋光催化剂的退火方法 法律状态 实质审查的生效 说明书摘要 本发明提供一种低温相氧化铋光催化剂的退火方法,属于半导体光催化领域。将氧化铋和供氧化合物真空密封,在300℃~900℃温度中,保温时间为1-72小时进行高温保温退火,最后自然降温。该方法提高其对于可见光的利用率,进而提高其可见光光催化效率。

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