| 专利名称 | 磁场产生装置、磁控管阴极及溅射装置 | 申请号 | CN201180004548.8 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN102725435A | 公开（授权）日 | 2012.10.10 | 申请（专利权）人 | 新柯隆株式会社;中国科学技术大学 | 发明（设计）人 | 孔为;林子敬;李明;谢斌;王海千;姜友松;长江亦周 | 主分类号 | C23C14/35(2006.01)I | IPC主分类号 | C23C14/35(2006.01)I;C03C17/245(2006.01)I;C23C14/34(2006.01)I | 专利有效期 | 磁场产生装置、磁控管阴极及溅射装置 至磁场产生装置、磁控管阴极及溅射装置 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明提供一种提高靶材的利用率的磁场产生装置(10)。其配置于靶材(8)的背面并在靶材(8)的表面(8a)根据磁力线(11)产生磁场，其包括：将极轴保持在与靶材(8)的面平行的方向(X方向)上的外周磁体(144)；配置于外周磁体(144)内侧并将极轴保持在与外周磁体(144)的极轴的方向平行的方向(X方向)上的中心磁体(142)；从背面支承外周磁体(144)及中心磁体(142)的轭板(12)；改变靶材(8)的表面(8a)的磁场分布的导磁板(16)。导磁板(16)配置于外周磁体(144)及中心磁体(142)之间。另外导磁板(16)配置为由轭板(12)从背面支承。 |
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