| 专利名称 | 干涉测量光学材料均匀性的方法 | 申请号 | CN201210406066.1 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN102928200A | 公开（授权）日 | 2013.02.13 | 申请（专利权）人 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 发明（设计）人 | 栾竹;刘世杰;吴福林;成倩;白云波 | 主分类号 | G01M11/02(2006.01)I | IPC主分类号 | G01M11/02(2006.01)I | 专利有效期 | 干涉测量光学材料均匀性的方法 至干涉测量光学材料均匀性的方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 一种干涉测量光学材料均匀性的方法，将光学材料加工成前后表面具有一定的夹角α的样品，利用干涉仪通过五次波面测量，然后计算得到样品的光学均匀性，为绝对测量结果。特别适合于待测元件超过干涉仪测试口径的大口径元件测量。 |
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