| 专利名称 | 一种用于PCM聚焦系统磁场分布测量的装置 | 申请号 | CN201010291996.8 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN102411129A | 公开（授权）日 | 2012.04.11 | 申请（专利权）人 | 中国科学院电子学研究所 | 发明（设计）人 | 赵鼎;陆熙;阮存军;王勇 | 主分类号 | G01R33/02(2006.01)I | IPC主分类号 | G01R33/02(2006.01)I | 专利有效期 | 一种用于PCM聚焦系统磁场分布测量的装置 至一种用于PCM聚焦系统磁场分布测量的装置 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明公开了一种用于PCM聚焦系统磁场分布测量的装置，涉及微波器件技术，包括四个主要部分：调节旋钮组件、磁钢固定板组件、矩形支架以及装置托架。该装置可以在一定范围内精确调节PCM聚焦系统中两组相对聚焦平面之间的距离，通过可拆卸机构可广泛适应不同的聚焦方案，并可为磁测量探针提供确定的运动路径。本发明装置针对带状电子注器件的研制和测试，具有调节精度高、通用性强、操作简便的优点，能够满足实际工程中对PCM聚焦系统进行精密调节和测量以及优选聚焦方案的要求。 |
1、源头对接，价格透明
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