| 专利名称 | 一种具有微纳褶皱图案的薄膜制备方法 | 申请号 | CN201010135681.4 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN102199744A | 公开（授权）日 | 2011.09.28 | 申请（专利权）人 | 国家纳米科学中心 | 发明（设计）人 | 张祝伟;郭传飞;刘前 | 主分类号 | C23C14/20(2006.01)I | IPC主分类号 | C23C14/20(2006.01)I;B32B15/08(2006.01)I;B32B27/06(2006.01)I | 专利有效期 | 一种具有微纳褶皱图案的薄膜制备方法 至一种具有微纳褶皱图案的薄膜制备方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明提供了一种制备具有微纳褶皱图案薄膜的方法，包括以下步骤：选取基底；在所述基底上形成聚合物薄膜，并进行退火处理，得到该聚合物薄膜厚度为10nm-2μm；在步骤2)所得的聚合物薄膜上形成金属薄膜，其厚度为2～50nm；用激光在步骤3)所得的金属薄膜表面进行图案化扫描；将步骤4)所得产物加热至所述聚合物薄膜的玻璃化转变温度。该方法工艺简单、可控性强、成本低廉，可以大面积实现。所制备的具有有序周期结构的薄膜材料在光催化、光电薄膜器件、高性能传感器等领域有着广阔的应用前景。 |
1、源头对接，价格透明
2、平台验证，实名审核
3、合同监控，代办手续
4、专员跟进，交易保障