| 专利名称 | Al衬底用化学机械抛光液 | 申请号 | CN201210219203.0 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN102757732A | 公开（授权）日 | 2012.10.31 | 申请（专利权）人 | 上海新安纳电子科技有限公司;中国科学院上海微系统与信息技术研究所 | 发明（设计）人 | 王良咏;刘卫丽;宋志棠 | 主分类号 | C09G1/02(2006.01)I | IPC主分类号 | C09G1/02(2006.01)I;C23F3/02(2006.01)I | 专利有效期 | Al衬底用化学机械抛光液 至Al衬底用化学机械抛光液 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明涉及一种化学机械抛光液，尤其涉及一种可有效应用于Al衬底化学机械抛光工艺的抛光液。本发明提供一种Al衬底用化学机械抛光液,包含抛光颗粒、氧化剂、鳌合剂、腐蚀抑制剂、表面活性剂、pH调节剂及水性介质。其中以抛光液总重量为基准，上述组分的重量百分比为：抛光颗粒0.1-50wt%；氧化剂0.01-10wt%；螯合剂0.01-5wt%；腐蚀抑制剂0.0001-5wt%；表面活性剂0.001-2wt%；余量为pH调节剂和水性介质。可显著降低化学机械抛光后Al衬底表面的桔皮坑等缺陷,从而大大改善抛光后Al衬底表面质量。 |
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