| 专利名称 | 一种可用于存储单元的多层量子点结构浮置栅 | 申请号 | CN200710099175.2 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN101308868 | 公开（授权）日 | 2008.11.19 | 申请（专利权）人 | 中国科学院物理研究所;南京大学 | 发明（设计）人 | 刘东屏;赵静;莎麦菈;韩秀峰;陈坤基 | 主分类号 | H01L29/423(2006.01)I | IPC主分类号 | H01L29/423(2006.01)I;H01L29/788(2006.01)I;H01L27/12(2006.01)I | 专利有效期 | 一种可用于存储单元的多层量子点结构浮置栅 至一种可用于存储单元的多层量子点结构浮置栅 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明涉及一种可用于存储单元的多层量子点结构浮置栅，包括一下部缓 冲层，及在其上依次生长的第一量子点生长层、第一填充介质层、中间层、第 二量子点生长层、第二填充介质层和顶部填埋保护层；所述的用于存储单元的 多层量子点结构浮置栅的横截面为矩形环、椭圆环或正六边形环。本发明还涉 及一种以上述多层量子点结构浮置栅为存储单元的基于多层量子点的抗辐射 非易失性存储器和微磁性传感器。本发明提供的用于存储单元的多层量子点结 构浮置栅，及基于此的抗辐射非易失性存储器和微磁性传感器克服了漏电问 题、解决了量子点间耦合所造成的信息存储失效问题，且具有抗辐射能力。 |
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