| 专利名称 | 基于横向剪切干涉结构的光学元件面形的测量方法 | 申请号 | CN201210356681.6 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN102878947A | 公开（授权）日 | 2013.01.16 | 申请（专利权）人 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 发明（设计）人 | 戴凤钊;唐锋;王向朝;张敏 | 主分类号 | G01B11/24(2006.01)I | IPC主分类号 | G01B11/24(2006.01)I | 专利有效期 | 基于横向剪切干涉结构的光学元件面形的测量方法 至基于横向剪切干涉结构的光学元件面形的测量方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 一种基于横向剪切干涉结构的光学元件面形的测量方法，测量系统包括光源、显微物镜、小孔光阑、准直物镜、剪切平板、光电探测器和计算机，测量时将待测光学元件置于准直物镜之后，并使光轴穿过待侧面的中心，测量步骤如下：①获取x方向和y方向的横向剪切干涉图；②在计算机中获取x方向和y方向的差分波前；③评价待测波前线性度，确定线性度最高的子矩形区域的初始点；④通过线性插值法计算重建的初始值；⑤通过区域法重建待测波前。本发明不增加测量次数，实现了高空间分辨率的光学元件面形的测量，并且提高了测量的精度和稳定性。 |
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