| 专利名称 | 非对称型移相光栅标记及在光刻机物镜像差检测中的应用 | 申请号 | CN200810034644.7 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN101241315 | 公开（授权）日 | 2008.08.13 | 申请（专利权）人 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 发明（设计）人 | 邱自成;王向朝;袁琼雁 | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I | IPC主分类号 | G03F7/20(2006.01)I;G01M11/02(2006.01)I | 专利有效期 | 非对称型移相光栅标记及在光刻机物镜像差检测中的应用 至非对称型移相光栅标记及在光刻机物镜像差检测中的应用 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 一种非对称型移相光栅标记及在光刻机物镜像差检测中的应用，所述标记由两 组非对称型移相光栅组成，两组光栅的线条方向分别为90度和0度，所述标记为交 替型移相光栅，光栅中两相邻透光区域的相位差为180度；移相光栅的线空比为1∶2， 移相光栅的周期为1.92λ/NA，其中，λ为光刻机照明光源的波长，NA为光刻机投 影物镜数值孔径可变化范围内其最大与最小值的平均值。本发明还提供一种基于非 对称型移相光栅标记的光刻机投影物镜波像差原位检测方法。通过优化移相光栅的 结构和尺寸，测试标记的像差灵敏度明显提高，利用该测试标记检测光刻机投影物 镜的波像差，检测精度明显提高。 |
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