| 专利名称 | 正弦相位调制的并行复频域光学相干层析成像系统和方法 | 申请号 | CN201210295824.7 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN102818786A | 公开（授权）日 | 2012.12.12 | 申请（专利权）人 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 发明（设计）人 | 黄炳杰;王向朝;李中梁;南楠;郭昕;陈艳 | 主分类号 | G01N21/45(2006.01)I | IPC主分类号 | G01N21/45(2006.01)I | 专利有效期 | 正弦相位调制的并行复频域光学相干层析成像系统和方法 至正弦相位调制的并行复频域光学相干层析成像系统和方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 一种正弦相位调制的并行复频域光学相干层析成像系统和方法，该方法和系统是在并行频域光学相干层析成像方法和系统的基础上，通过用反射式空间正弦相位调制器件代替干涉参考臂的参考平面反射镜，在二维光电探测器阵列上获得的二维频域干涉条纹沿并行探测方向上引入空间正弦相位调制，即在二维频域干涉条纹中引入空间载波；然后对含有空间载波的二维频域干涉条纹进行空间傅里叶变换分析，得到二维复频域干涉条纹，最后再通过沿光频方向的逆傅里叶变换获得待测样品层析图。本发明具有结构简单、成像速度快、对运动模糊不敏感、使待测样品始终处于灵敏度较高区域的特点，只需一次曝光即可获得待测样品层析图。 |
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