| 专利名称 | 基于磁流变液的刚度可控小磨具抛光盘及抛光方法 | 申请号 | CN201210080070.3 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN102785131A | 公开（授权）日 | 2012.11.21 | 申请（专利权）人 | 中国科学院光电技术研究所 | 发明（设计）人 | 王佳;万勇建;施春燕 | 主分类号 | B24B1/00(2006.01)I | IPC主分类号 | B24B1/00(2006.01)I | 专利有效期 | 基于磁流变液的刚度可控小磨具抛光盘及抛光方法 至基于磁流变液的刚度可控小磨具抛光盘及抛光方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明为基于磁流变液的刚度可控小磨具抛光盘，包括转轴、基底、十字万向节、电流线圈、铁芯、机械密封部件、磁流变液、抛光层和外围电路，基底中心对称于转轴；十字万向节连接转轴；电流线圈连接电刷；在铁芯的外部绕设电流线圈并置于基底内部；机械密封部件的内部嵌设基底且形成密封结构；磁流变液密封于机械密封部件和基底之间；抛光层位于机械密封部件的外底部和被抛光工件的上表面之间紧密贴合；电刷固接在转轴上；外围电路与电刷连接，用于调节电流线圈中电流大小，控制磁流变液弹性模量。本发明还公开基于磁流变液的刚度可控小磨具的抛光方法，解决刚性磨盘加工中压力分布不均匀及无法吻合被加工工件面形等问题，提高加工效率和精度。 |
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