| 专利名称 | 微透镜阵列及其制作方法 | 申请号 | CN201110131361.6 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN102789011A | 公开（授权）日 | 2012.11.21 | 申请（专利权）人 | 中国科学院微电子研究所 | 发明（设计）人 | 闫建华;欧文;欧毅 | 主分类号 | G02B3/00(2006.01)I | IPC主分类号 | G02B3/00(2006.01)I;G03F7/00(2006.01)I;G03F7/38(2006.01)I | 专利有效期 | 微透镜阵列及其制作方法 至微透镜阵列及其制作方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明实施例公开了一种微透镜阵列及其制作方法，所述制作方法包括：提供基底；在基底内形成阵列浅槽；在基底上旋涂光刻胶，所述光刻胶覆盖基底表面及基底内的阵列浅槽；通过光刻、刻蚀工艺使所述阵列浅槽内的光刻胶达到预设高度；通过热熔融工艺在基底上形成光刻胶微透镜阵列；通过刻蚀工艺在基底内形成基底微透镜阵列，所述基底微透镜阵列中相邻的微透镜不在同一水平面内。采用本发明所提供的微透镜阵列制作方法，能够形成填充因子为100％的微透镜阵列，进而在将所述微透镜阵列应用于CCD或IRFPA等器件后，该微透镜阵列能够极大地提高器件的灵敏度。 |
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