| 专利名称 | 氧化铁颗粒选择性填充在纳米碳管中空管腔内的方法 | 申请号 | CN200810229969.0 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN101745434A | 公开（授权）日 | 2010.06.23 | 申请（专利权）人 | 中国科学院金属研究所 | 发明（设计）人 | 侯鹏翔;喻万景;李世胜;刘畅;成会明 | 主分类号 | B01J37/00(2006.01)I | IPC主分类号 | B01J37/00(2006.01)I;B01J37/08(2006.01)I;B01J23/745(2006.01)I;B01J21/18(2006.01)I;B01J35/00(2006.01)I | 专利有效期 | 氧化铁颗粒选择性填充在纳米碳管中空管腔内的方法 至氧化铁颗粒选择性填充在纳米碳管中空管腔内的方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明涉及氧化铁颗粒在纳米碳管中空管腔内的选择性填充，具体为一种氧化铁颗粒在纳米碳管中空管腔内选择性填充、氧化铁颗粒填充量和尺寸精确可控的方法和填充复合物的用途。以具有规则孔结构的阳极氧化铝膜为模板，通过化学气相沉积法在模板上均匀沉积炭层，得到阳极氧化铝膜/碳的复合物；把复合物放入硝酸铁溶液中，室温下超声震荡，取出阳极氧化铝膜/碳的复合物，干燥后在保护气氛下处理，将硝酸铁分解成氧化铁，然后去除阳极氧化铝模板，最后获得氧化铁颗粒在纳米碳管中空管腔内选择性填充的纳米碳管。氧化铁颗粒选择性填充在纳米碳管中空管腔，氧化铁颗粒重量含量在5-70％之间精确均匀可控，氧化铁颗粒尺寸在1-10纳米可控。 |
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