| 专利名称 | 一种磁性材料逻辑电路及制作方法 | 申请号 | CN200610165037.5 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN101202543 | 公开（授权）日 | 2008.06.18 | 申请（专利权）人 | 中国科学院物理研究所 | 发明（设计）人 | 顾长志;徐鹏;夏柯;杨海方;李俊杰 | 主分类号 | H03K19/00(2006.01)I | IPC主分类号 | H03K19/00(2006.01)I | 专利有效期 | 一种磁性材料逻辑电路及制作方法 至一种磁性材料逻辑电路及制作方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明涉及一种磁性材料纳米结构逻辑电路，包括在在衬底上沉积磁性金属 层，并刻蚀出电路布线、输入输出信号的电极及引入工作电压的电极；在电路布 线中设置磁性金属纳米点接触结构和与之配合的参考电阻，其参考电阻用金属纳 米线表述，并且磁性金属纳米点与金属纳米线串联之后，联入恒压电源两端，由 电源、磁性金属纳米点接触结构和金属纳米线形成一个环路；金属纳米线，即参 考电阻的大小与磁性金属纳米点接触结构的低电阻态的电阻大小相同，金属纳米 线的长度l和线宽d符合以下的公式：R＝ρl/td。该制备方法简单，只需一次 沉积过程就可以完成整个电路，从而实现了纳米逻辑电路的高效制作。 |
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