一种互补式金属氧化层半导体噪声发生器

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专利名称 一种互补式金属氧化层半导体噪声发生器 申请号 CN200610165116.6 专利类型 发明专利 公开(公告)号 CN101202532 公开(授权)日 2008.06.18 申请(专利权)人 中国科学院半导体研究所 发明(设计)人 周盛华;吴南健 主分类号 H03B29/00(2006.01)I IPC主分类号 H03B29/00(2006.01)I;H03F3/45(2006.01)I;H03K3/84(2006.01)I 专利有效期 一种互补式金属氧化层半导体噪声发生器 至一种互补式金属氧化层半导体噪声发生器 法律状态 实质审查的生效 说明书摘要 本发明涉及噪声发生器技术领域,公开了一种互补式金属氧化层半导 体噪声发生器,包括:偏置电路,用于为双漏极互补式金属氧化层半导体 晶体管电流镜和差分放大器提供直流工作点;双漏极互补式金属氧化层半 导体晶体管电流镜,用于将微小的噪声电流信号转换放大成较大的差分电 压信号输出给差分放大器;差分放大器,用于将双漏极互补式金属氧化层 半导体晶体管电流镜输入的差分双端信号转换为单端信号,并将该单端信 号放大输出。利用本发明,采用广泛使用的CMOS工艺制作,大大降低了 噪声发生器的功耗,很好地解决了即使是几μW的功耗都会缩短无源标签 工作距离的问题。

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