| 专利名称 | 一种纳米图形化系统及其光响应特性检测装置 | 申请号 | CN201220322833.6 | 专利类型 | 实用新型 | 公开（公告）号 | CN202710465U | 公开（授权）日 | 2013.01.30 | 申请（专利权）人 | 中国科学院物理研究所 | 发明（设计）人 | 刘盼;郭鹏;于国强;韩秀峰;孙晓玉;周向前 | 主分类号 | G01N21/25(2006.01)I | IPC主分类号 | G01N21/25(2006.01)I;G01R31/00(2006.01)I | 专利有效期 | 一种纳米图形化系统及其光响应特性检测装置 至一种纳米图形化系统及其光响应特性检测装置 | 法律状态 | 说明书摘要 | 一种纳米图形化系统及其光响应特性检测装置，该纳米图形化系统包括电源、控制装置和测量装置，该测量装置包括电子束枪、真空腔、真空系统、样品台和光响应特性检测装置，该光响应特性检测装置包括光发射器、导入光纤、光探测器、CCD成像设备和精密传导光纤，该光发射器通过该精密传导光纤与该导入光纤连接，该光探测器通过该精密传导光纤与该CCD成像设备连接，该导入光纤及该光探测器均对应于该纳米图形化系统的样品台设置于该纳米图形化系统的真空腔内，该导入光纤用于将该光发射器发出的光束导入至该样品台的样品上，该光探测器用于采集该样品的反射光，该光探测器相对于该导入光纤设置以采集该样品的反射光。 |
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