一种电容器超薄膜的制备方法

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专利名称 一种电容器超薄膜的制备方法 申请号 CN201210376839.6 专利类型 发明专利 公开(公告)号 CN102930982A 公开(授权)日 2013.02.13 申请(专利权)人 中国科学院化学研究所 发明(设计)人 刘帅;王丽华;吴杰;刘必前 主分类号 H01G4/14(2006.01)I IPC主分类号 H01G4/14(2006.01)I;H01G9/02(2006.01)I 专利有效期 一种电容器超薄膜的制备方法 至一种电容器超薄膜的制备方法 法律状态 实质审查的生效 说明书摘要 一种电容器超薄膜的制备方法,其特征在于,使用甲苯等溶剂将含有聚苯乙烯嵌段的嵌段共聚物溶解;使用旋涂法在平滑的电极表面旋涂成膜。薄膜表面平整致密,膜内部结构规整,膜厚度均一无缺陷。厚度为10~500纳米。本制膜方法能够得到纳米级厚度的聚合物薄膜,克服现有薄膜电容器薄膜厚度较大的缺点,具有制备过程简单,薄膜厚度纳米级,易于工业放大,高精度高稳定等优点。

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