一种质谱质量测量误差的预测方法

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专利名称 一种质谱质量测量误差的预测方法 申请号 CN200610164852.X 专利类型 发明专利 公开(公告)号 CN101196498 公开(授权)日 2008.06.11 申请(专利权)人 中国科学院计算技术研究所 发明(设计)人 高文;张京芬;贺思敏 主分类号 G01N30/72(2006.01)I IPC主分类号 G01N30/72(2006.01)I 专利有效期 一种质谱质量测量误差的预测方法 至一种质谱质量测量误差的预测方法 法律状态 实质审查的生效 说明书摘要 本发明公开了一种质谱质量测量误差的预测方法,包括如下步骤:步骤一,将 物质的测量误差分解为系统误差与随机误差;步骤二,在质谱中计算样本点的测量 误差,样本点包括质谱中的离子、离子之和或者离子之差;步骤三,使随机误差的 目标函数取最值来确定系统误差分布函数的参数取值。所述在质谱中计算样本点的 测量误差是通过预测离子分子式的方法获得。本发明的优点是:不需要额外的内标 或外标参考,不需要进行预先的鉴定;既可以预测单个质谱的误差情况,也可以预 测整个样品的所有质谱的误差分布情况;预测准确度高。

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