| 专利名称 | 一种配置紫外光照射清洁功能的真空镀膜机 | 申请号 | CN201210133624.1 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN102644052A | 公开（授权）日 | 2012.08.22 | 申请（专利权）人 | 中国科学院光电技术研究所 | 发明（设计）人 | 李斌成;郭春 | 主分类号 | C23C14/24(2006.01)I | IPC主分类号 | C23C14/24(2006.01)I;C23C14/00(2006.01)I | 专利有效期 | 一种配置紫外光照射清洁功能的真空镀膜机 至一种配置紫外光照射清洁功能的真空镀膜机 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 一种配置紫外光照射清洁功能的真空镀膜机，与常规真空镀膜机相比，除了热蒸发镀膜功能配置外，多装备了紫外光照射清洁模块；紫外光照射清洁模块主要由紫外光光源、冷却水循环系统和金属外套组成，紫外光照射清洁模块固定到支架上放置于真空镀膜室中，实现对光学元件的紫外光照射清洁功能。紫外光照射清洁模块的功能由真空镀膜机软件控制，也可以手动操作。本发明能快速清除真空镀膜机内放置的光学元件上的碳氢根污染物，有效提高所制备的光学薄膜元件的性能。本发明配置有紫外光照射清洁模块的真空镀膜机主要适用于深紫外/真空紫外波段光学元件镀膜。 |
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