| 专利名称 | 一种消除轻质反射镜压印效应的抛光装置 | 申请号 | CN201110075940.3 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN102179738A | 公开（授权）日 | 2011.09.14 | 申请（专利权）人 | 中国科学院光电技术研究所 | 发明（设计）人 | 钟显云;范斌;徐清兰 | 主分类号 | B24B13/00(2006.01)I | IPC主分类号 | B24B13/00(2006.01)I | 专利有效期 | 一种消除轻质反射镜压印效应的抛光装置 至一种消除轻质反射镜压印效应的抛光装置 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 一种消除轻质反射镜压印效应的抛光装置，适用于大口径、高轻量化、高径厚比反射镜高精度加工的抛光装置，属于光学表面加工领域，它由密封缸、顶盖、支撑座、弧形夹具、弹性密封圈、微型气泵、精密截止阀、精密泄压阀、四通体以及硅胶管组成。抛光过程中，外加压力引起轻质反射镜内腔孔对应镜面与筋粘接镜面弹性变形不连续而导致高精度抛光后，面形呈现波浪形的压印效应已成为轻质结构反射镜高精度加工的技术壁垒。本发明公开的抛光装置将反射镜浸入于由密封缸，顶盖，弹性密封圈构成的密封腔中，并对其内腔充气。轻质反射镜镜面在重力、磨头压力以及反向充气压力作用下达到平衡，消除压印效应，实现大口径，高轻量化反射镜的高精度加工。 |
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