| 专利名称 | 一种包含纳米缝的金属膜透镜 | 申请号 | CN200710177752.5 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN101158727 | 公开（授权）日 | 2008.04.09 | 申请（专利权）人 | 中国科学院光电技术研究所 | 发明（设计）人 | 罗先刚;徐挺;杜春雷;王长涛 | 主分类号 | G02B3/00(2006.01)I | IPC主分类号 | G02B3/00(2006.01)I;G02B1/00(2006.01)I;G02B1/10(2006.01)I;G01N33/483(2006.01)I;G01N21/00(2006.01)I | 专利有效期 | 一种包含纳米缝的金属膜透镜 至一种包含纳米缝的金属膜透镜 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 一种包含纳米缝的金属膜透镜，其特征在于：首先确定入射波，再选取合适的基底材 料，在基底上再蒸镀一层金属膜，让入射波垂直于金属膜表面入射，计算入射波在所取的 金属膜中的趋肤深度；在金属膜上选定x轴方向，在x轴正方向上抽样；然后通过计算每个 抽样点的相位改变量、传播常数计算出每个抽样点金属缝的宽度；取x轴负方向上的缝隙排 布与其正方向上缝隙排布呈对称分布；最后根据设计所得的各抽样点的缝宽；利用现有加 工技术进行制作，得到包含纳米缝的金属膜透镜。本发明可以根据事先给定的任意物像位 置来改变金属膜透镜的缝隙分布以实现近场或者远场成像，同时本发明所设计的透镜结构 简单，可以很方便的用于光路系统集成，具有广阔的应用前景。 |
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