| 专利名称 | 用掩膜和无掩膜技术一次成型原子力显微镜探针和悬臂梁 | 申请号 | CN200410066491.6 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN1587024 | 公开（授权）日 | 2005.03.02 | 申请（专利权）人 | 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 | 发明（设计）人 | 李昕欣;韩建强;鲍敏杭;杨恒;沈绍群;王跃林 | 主分类号 | B81C1/00 | IPC主分类号 | B81C1/00;B81C5/00;G12B21/08 | 专利有效期 | 用掩膜和无掩膜技术一次成型原子力显微镜探针和悬臂梁 至用掩膜和无掩膜技术一次成型原子力显微镜探针和悬臂梁 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明提供了一种利用掩膜－无掩膜腐蚀技术 实现AFM悬臂梁和探针一次成型的制作方法。其特征在于在 腐蚀过程中，探针采用有掩膜腐蚀技术腐蚀，而梁采用无掩膜 腐蚀技术腐蚀，当探针针尖的直径达到预定值时，梁的厚度达 到设定值。本发明所涉及的各向异性湿法腐蚀工艺一次成型 AFM探针和悬臂梁的制作方法具有以下优点。(1)制作工艺简 单：仅采用了常规的光刻工艺和湿法各向异性腐蚀工艺，对工 艺设备要求较低、简便易行，降低了产品成本，提高了成品率； (2)采用SOI硅片的顶层硅的下表面作为光反射面，与重掺杂自 停止腐蚀形成的表面相比更平整，光反射率高；(3)以二氧化硅 埋层为腐蚀自停止层，与重掺杂自停止方法相比，对梁厚度的 控制更为精确。 |
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