| 专利名称 | 真空红外线加热退火炉 | 申请号 | CN201010139658.2 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN102212658A | 公开（授权）日 | 2011.10.12 | 申请（专利权）人 | 中国科学院物理研究所;北京埃德万斯离子束技术研究所 | 发明（设计）人 | 刘厚方;尹林;刘金声;韩秀峰 | 主分类号 | C21D1/26(2006.01)I | IPC主分类号 | C21D1/26(2006.01)I;C22F1/00(2006.01)I | 专利有效期 | 真空红外线加热退火炉 至真空红外线加热退火炉 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明提供一种真空红外线退火炉，包括样品架、红外线光源、绝热陶瓷环、样品托、测温装置以及真空腔；其中，样品架位于真空腔内，所述红外线光源位于所述样品架的底部，所述样品架的顶端有一开口，所述绝热陶瓷环安放在所述样品架顶端开口的四周；用于安放样品的样品托被安装在所述绝热陶瓷环上，使得所述样品托中的样品能够透过所述绝热陶瓷环以及所述样品架的顶端开口接收所述红外线光源散发出的热量；所述测温装置对所述样品在退火过程中的温度予以测量。本发明的真空红外线加热退火炉能够在磁场环境下使用，具有应用范围广的优点。 |
1、源头对接，价格透明
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4、专员跟进，交易保障