| 专利名称 | 高密度矩形深刻蚀石英光栅 | 申请号 | CN200410017063.4 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN1564050 | 公开（授权）日 | 2005.01.12 | 申请（专利权）人 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 发明（设计）人 | 周常河;张妍妍 | 主分类号 | G02B27/44 | IPC主分类号 | G02B27/44;H04B10/12;H04J14/00 | 专利有效期 | 高密度矩形深刻蚀石英光栅 至高密度矩形深刻蚀石英光栅 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 一种用于常用波段1.55微米光纤通信的密集波 分复用器件的高密度矩形深刻蚀石英光栅，其特征在于该光栅 的线密度为600～700线/毫米，光栅的深度为2.8～3.1微米， 光栅的占空比为1/2。本发明可以同时使TE、TM偏振方向的 +1级布拉格透射衍射效率实现高于83％的结果，本发明矩形 刻蚀石英光栅由微电子光刻工艺、深刻蚀工艺加工而成，可以 低成本、大批量生产。 |
1、源头对接，价格透明
2、平台验证，实名审核
3、合同监控，代办手续
4、专员跟进，交易保障