| 专利名称 | 一种用于气相沉积的水平式反应器结构 | 申请号 | CN200310108793.0 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN1544687 | 公开（授权）日 | 2004.11.10 | 申请（专利权）人 | 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 | 发明（设计）人 | 于广辉;叶好华;雷本亮;李爱珍;齐鸣 | 主分类号 | C23C16/455 | IPC主分类号 | C23C16/455 | 专利有效期 | 一种用于气相沉积的水平式反应器结构 至一种用于气相沉积的水平式反应器结构 | 法律状态 | 授权 | 说明书摘要 | 本发明涉及一种用于气相沉积的水平式反应器 的结构，其特征在于采用了源气垂直喷淋供给的方式。该反应 器结构由两组喷淋头、一路载气、一个样品托和一个圆形或者 方形的水平腔体构成，整个反应器结构放在水平腔体内，源气 和载气进气口和出气口分别在水平腔体的两端，使用时反应器 水平放置。由于采用垂直喷淋供气方式，使得两种反应气体在 混合区很小的情况下也可以实现均匀混合，既保证了外延生长 中大面积均匀性的实现，同时也减少了对外延生长有害的预反 应的发生。采用喷淋头与样品平行的结构，既可以采用集成化 的反应器结构，即源气喷淋头和样品托固定在一起，也可以分 别控制各气路的位置，使得反应器容易加工，使用灵活，适合 于批量生产。 |
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