| 专利名称 | 基于模式图的纹理特征表示方法 | 申请号 | CN02142419.5 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN1484200 | 公开（授权）日 | 2004.03.24 | 申请（专利权）人 | 中国科学院自动化研究所 | 发明（设计）人 | 陈延伟;曾湘燕;卢汉清 | 主分类号 | G06T5/50 | IPC主分类号 | G06T5/50 | 专利有效期 | 基于模式图的纹理特征表示方法 至基于模式图的纹理特征表示方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 一种基于模式图的纹理特征表示方法，包括步 骤：对原图像的每个像素取其5*5的领域块b；设有M个反映 图像灰度梯度变化的模板，其中，M是大于1的正整数；计算 M个模板和b的内积；用内积最大的模板的编号作为这一像素 在模式图的输出值。本发明的特征统计量的计算时间比常规方 法要短的多，而且本发明去除了图像中光照的影响，只要光照 在一定范围内是均匀的，即使在广域上有不同的光照，模式图 也不受影响。 |
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