| 专利名称 | 一种掩模用光刻胶微凸镜列阵的等离子体回流成形方法 | 申请号 | CN201010182280.4 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN101872804A | 公开（授权）日 | 2010.10.27 | 申请（专利权）人 | 中国科学院上海技术物理研究所 | 发明（设计）人 | 叶振华;黄建;胡伟达;尹文婷;马伟平;陈昱;林春;胡晓宁;丁瑞军;何力 | 主分类号 | H01L31/18(2006.01)I | IPC主分类号 | H01L31/18(2006.01)I | 专利有效期 | 一种掩模用光刻胶微凸镜列阵的等离子体回流成形方法 至一种掩模用光刻胶微凸镜列阵的等离子体回流成形方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明公开了一种红外焦平面列阵器件原位集成红外微凸镜列阵工艺所需的掩模用光刻胶微凸镜列阵的成形方法，它涉及光电探测器件的制造技术。本发明采用高密度、低能量的诱导耦合等离子体(ICP)增强反应离子刻蚀(RIE)方法，仅对红外焦平面探测器表面光刻胶进行局部的等离子体轰击回流的掩模用光刻胶微凸镜列阵成形的技术方案。基于高密度、低能量氧等离子体的光刻胶微凸镜列阵成形方法，只在氧等离子体与光刻胶发生反应的局部区域产生温升回流，解决了采用常规热熔回流进行红外焦平面探测器掩模用光刻胶微凸镜成形时必须经受高温过程的缺点。因而，本发明具有操作简单、可控性好和无需经受高温过程的特点。 |
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